Сразу после объявления 90-нм технологического процесса TSMC (Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.) сообщила о том, что собирается выпустить 65-нм (0,065 мкм) чипы уже к 2004-2005 году.
Как мы уже писали, TSMC сообщила о своих планах начать производство 90-нм чипов по CMOS-процессу во втором-третьем квартале 2002 года. Для того, чтобы заводы компании смогли выпускать 65-нм чипы компания собирается применить несколько абсолютно новых и не до конца даже протестированных технологий.
Среди новых систем, которые планирует использовать TSMC, будут ALD (atomic layer deposition, замещение слоя атомов) и следующее поколение литографических инструментов (next-generation lithography, NGL). Компания утверждает, что для реализации 65-нм технологических процессов ей потребуются также 157-нм сканнеры и EPL (electron-beam projection lithography, электронно-лучевая литография).