Первый EUV-инструмент поможет «Изобретению»

ПредыдущаяСледующая

Компания ASML сообщает, что предоставила первый в мире литографический инструмент, использующий источник света с длиной волны в «жестком» ультрафиолетовом диапазоне – EUV (extreme ultraviolet). Инструмент поступил в распоряжение нанотехнологического колледжа Университета Олбани (столицы штата Нью-Йорк).

EUV-инструмент ADT (Alpha Demo Tool) стоимостью 65 млн. долларов предназначен для сугубо научно-исследовательских целей, а не производства коммерческих ИС. EUV ADT будет использован в рамках международного проекта Invent (англ. – изобретение, International Venture for Nanolithography), поддерживаемого штатом Нью-Йорк. В проекте Invent также участвуют AMD, IBM, Micron и Qimonda, а Sony и Toshiba принимают участие в других исследовательских проектах колледжа, связанных с EUV-технологией.

В университете уверены, что появление ASML ADT является важным шагом на пути внедрения EUV-технологии в производство и подчеркивают, что уже располагают достаточным количеством фотомасок для создания пробных экземпляров чипов по нормам 32-нм процесса. А присутствие сотрудников большого числа ведущих компаний позволяет надеяться, что процесс внедрения EUV-литографии не будет слишком долгим.

Нельзя не отметить, что в списке участников Invent нет корпорации Intel. А между тем именно Intel называется наблюдателями главным потенциальным покупателем EUV-оборудования, «впереди планеты всей» идущим к всё более тонким нормам. Intel уже освоила 65-нм и готовится к началу 45-нм производства, в то время как AMD, принимающая участие в Invent вместе с IBM, лишь планирует начать массовое 65-нм производство. И именно Intel должна была бы быть больше всех рада тому, что EUV-литография будет готова в срок – к моменту планового (в соответствии с законом Мура) перехода на 32-нм нормы. Однако, Intel, судя по всему, держит производителей литографического оборудования в «ежовых рукавицах», не давая им надежд на получение выгодного контракта, всячески сбивая цену на новые продукты или вообще отказываясь их покупать, как это было в случае с 157-нм литографическими инструментами и в случае с 193-нм иммерсионными сканерами для 65-нм норм. И даже есть данные, что Intel предпочтет использовать иммерсионные, но оптические (193-нм), а не EUV-инструменты, (строго говоря, длина волны 193 нм тоже соответствует ультрафиолету, но более «мягкому», и позволяет использовать собирающие линзы или катадиоптрические системы, в то время как для EUV возможно использование лишь исключительно рефлективных фокусирующих схем).

Так или иначе, но источник сообщает, что ASML готовится создать еще один «демонстрационный» EUV-инструмент, который будет предоставлен расположенному в Бельгии научно-исследовательскому центру IMEC. Известно, что кроме ASML, над EUV-технологиями вела работы и Nikon. Однако, о прогрессе японского вендора в этой области пока ничего не известно.

29 августа 2006 Г.

14:13

Ctrl
ПредыдущаяСледующая

Все новости за сегодня

Представлены смартфоны LG V30S ThinQ и V30S+ ThinkQ : LG V30S ThinQ получил умные системы Vision AI и Voice AI, которые, как видно по названию, опираются в своей работе на систему искусственного интеллекта

Xiaomi и Microsoft договорились о стратегическом партнерстве: Сотрудничество охватит устройства, облачные вычисления и искусственный интеллект

Опубликована первая фотография смартфона Xiaomi Mi 7: Основная камера включает два модуля, расположенные в левой верхней части задней панели друг над другом5

Появились первые изображения объектива Leica DG Vario-Elmarit 50-200mm f/2.8-4.0 ASPH Power OIS: Объектив Leica DG Vario-Elmarit 50-200mm f/2.8-4.0 ASPH Power OIS предназначен для камер системы Micro Four Thirds1

Видео дня: официальная презентация Samsung Galaxy S9 утекла в Сеть до анонса: Остается лишь дождаться подтверждения цены и даты выхода37

Пользователей YouTube начали отписывать от неофициальных музыкальных каналов: И подписывать на официальные каналы исполнителей12

Apple переносит данные китайских пользователей iCloud на территорию КНР: Apple добавила, что подобные перемены вовсе не подразумевают свободный доступ со стороны правительства к пользовательским данным5

Новый флагманский смартфон LG Judy получит громкоговорители Boombox и выйдет только в июне: Что касается названия, то устройство может называться не LG G7, как следовало бы его окрестить по порядку, а LG G91

Смартфон Leagoo Power 5 получит аккумулятор «честной» емкостью 7000 мА•ч : Анонс устройства ожидается 26 февраля2

Sony Xperia XZ2 и Xperia XZ2 Compact: официальные изображения и новые подробности: Sony Xperia XZ2 и Xperia XZ2 Compact будут полностью рассекречены уже завтра35

iXBT TV

  • ИИ в опасности, 10 000-летние часы, Apple представляет "будущее сегодня"

  • Обзор сетевого накопителя Synology DS918+ на 4 винчестера

  • Обзор экшн-камеры Gmini MagicEye HDS8000 с ненастоящим 4K-видео

  • Обзор многофункционального сетевого CD-ресивера Pioneer NC-50DAB

  • Обзор блока питания Thermaltake Toughpower iRGB Plus 1250W Titanium с программно-аппаратным комплексом мониторинга

  • [6.07] Подкаст PRO игры: cтрасти вокруг Kingdom Come: Deliverance, вымирание слэшеров, русский колорит

  • Обзор компактной фотокамеры Sony RX10 IV с сенсором 1″ и несменным 25-кратным зум-объективом

  • Обзор карты памяти SanDisk Extreme Pro CFast 2.0 емкостью 128 ГБ

  • Обзор портретного объектива Fujinon XF 50mm f/2 R WR для компактных беззеркальных камер Fujifilm

  • Запуск Falcon Heavy, убытки Илона Маска, умные очки Intel

  • Обзор недорогого корпуса Deepcool Earlkase RGB со стеклянной стенкой и RGB-подсветкой

  • Обзор кинокамеры Canon EOS C200: съемка 4K-видео с высокой частотой кадров в формате Cinema RAW Light

Календарь

август
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс