Институты Georgia Tech и Sandia National Labs опубликовали свой план по разработке технологии импринт-литографии, которая, как склонны считать некоторые аналитики, способна в скором времени (уже в ближайшее десятилетие) составить конкуренцию в деле производства новых микросхем.
Cуть нового метода печати схем состоит в том, что толщина контактных дорожек составляет всего несколько нанометров.
Приверженцы нового метода считают, что данная технология позволит уменьшить астрономические затраты (что подтверждает проект Souvenir, о котором мы упоминали ранее), связанные со строительством фабрик, работающих с традиционным литографическим методом печати, в котором световой луч выжигает дорожку. В новом же методе дорожка просто впрессовывается в материал. Впрочем, у метода печатной импринт-литографии есть и критики, которые считают, что дорожки, выполненные таким образом, не достаточно высокого качества.
В планах разработчиков включен трехгодичный срок, отведенный на исследовательские работы по новому методу, тестовые испытания с определением способов снижения брака при производстве путем своевременного обнаружения неоднородностей материала (образовавшиеся нежелательные впадины и трещины). Впрочем, обнародованный роадмап уже включает базовые методы борьбы с вышеуказанными проблемами.
National Labs уже достиг договоренности с университетами University of Aarhus и Aalbord University в Дании о предоставлении наноимпринт технологий для проведения совместных проектов, так что будем надеяться, технология получит свое развитие, однако для скорейшего ее продвижения Georgia Tech и Sandia National Labs следовало бы поискать и заинтересованные коммерческие структуры для поддержки своего детища.
Источник: CNET