Nikon сообщает, что собирается выпустить на рынок первые иммерсионные продукты к 2006 году. Два основных конкурента Nikon, ASML и Canon, уже объявили о своих планах в прошедшем месяце.
Компания собирается построить работающий прототип иммерсионного сканера во второй половине 2004 года, чтобы дать возможность крупнейшим клиентам ознакомиться с его функциональностью. Прототип, намеченный на 2004 год, будет построен на основе 193-нм сканера с измененной числовой апертурой – 0,85.
К 2005 году Nikon намеревается начать поставки бета-версии продукта своим клиентам для дальнейшего ознакомления и тестирования на местах. Бета-версия иммерсионного сканера должна будет обладать числовой апертурой порядка 0,92. Наконец, к 2006 году компания обещает начать продажи полностью функционального инструмента с числовой апертурой не менее 1,0.
Технологии иммерсионной литографии Nikon разрабатывала совместно с Tokyo Electron с июня прошлого год. В технологии двух компаний планируется использовать слой специальным образом очищенной воды толщиной 1 мм, преобразующий эффективную длину волны 193-нм источника в 135-нм.
И, если все благополучно, в 2007 году можно ожидать начала внедрения производства по 45-нм нормам, как это, кстати, и запланировано в последних планах Intel.