Nikon и JSR: программа по разработке резистов для 193 нм литографии

Nikon объявила о создании технологического альянса по разработке фоторезистов для 193 нм литографии с токийской компанией JSR Microelectronics .

Согласно условиям, к середине 2002 года JSR Microelectronics получит две новейших литографических установки Nikon для своих R&D центров: североамериканское подразделение JSR получает в свое владение 193 нм аргон-фторидный (ArF) сканер Nikon S305C, второй сканер, S306C, будет установлен в 193 нм научно-исследовательском центре компании в Йокаичи, Япония.

Помимо разработки новых фоторезистов, JSR намерена использовать полученные системы для оптимизации процесса выпуска чипов в целом. Как было заявлено представителем Nikon, компании займутся доработкой процесса и доведением его "до рабочего состояния".

Автор:

| Источник: PC Watch

Все новости за сегодня

Календарь

март
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс