На конференции SPIE Microlithography группа японских разработчиков сообщила о завершении разработки прототипа литографического инструмента, построенного на основе технологии EUV (extreme ultraviolet, жесткий ультрафиолет). Ассоциация передовых технологий электроники (Association of Super-Advanced Electronics Technologies, ASET), утверждает, что система, построенная с применением EUV, позволит создавать интегральные микросхемы с размером элемента вплоть до 35 нм (0,035 мкм).
Сейчас разработчики завершают намеченную программу создания фотошаблонов, систем метрологии и калибровки, фоторезистов и лазеров для EUV-литографии. Если совершить небольшой экскурс в истории, то можно вспомнить, что в конце прошлого года ASET, при поддержке правительства и некоторых компаний, создала специальную группу для поддержки EUV в Японии, в которую, кстати, вошли Canon и Nikon. И неважно, явилось ли столь быстрое завершение работ результатом помощи ASET или напряженной работой исследователей (а начались исследования более двух лет назад, и первые EUV-инструменты были предназначены для 70-нм техпроцессов), но плод этих усилий вполне ощутим и в скором будущем мы увидим EUV-литографические системы.
Пока что ASET лишь сообщила о завершении разработки и не представила результатов тестирования. Кроме того, когда они появятся, EUV грозит судьба быть всецело захваченной какой-нибудь "хищной акулой бизнеса", так как ASET не имеет четких планов на будущее своего детища. "Мы занимаемся исключительно исследованиями" - сообщили они репортерам.
Что же касается Canon и Nikon, то сейчас они работают над метрологическими и калибровочными средствами для EUV-литографии, а Gigaphoton, совместное предприятие Komatsu и Ushio, работает над созданием ультрафиолетовых лазеров для EUV.