Подразделение университета Нью-Мексико, ведающее вопросами лицензирования (UNM.STC), подало иск против корпорации Intel, обвиняя ее в нарушении патента.
Под вопрос поставлена законность использования технологии литографии с двойными шаблонами, которая применяется в 32-нанометровом техпроцессе. Как известно, Intel уже более года использует производство, основанное на нормах 32 нм, для выпуска процессоров.
В июне похожие иски в отношении TSMC и Samsung Electronics были поданы UNM.STC в Комиссию по международной торговле США. Впоследствии они были отозваны, поскольку TSMC и Samsung согласились лицензировать соответствующую разработку. Лицензионные платежи университет получает также от Renesas Electronics, Hynix Semiconductor и Toshiba. Истец рассчитывает, что Intel вскоре тоже войдет в этот список.
Источник: EE Times