Nikon сообщает о выпуске первого иммерсионного инструмента с числовой апертурой (NA, numerical aperture) более единицы. Использующий 193-нм источник света, NSR-S609B обеспечивает значение NA 1,07 и способен обрабатывать не менее 130 300-мм полупроводниковых пластин в час. Nikon позиционирует новый сканер для выпуска микросхем по 55-нм нормам и тестирования 45-нм технологий.
Таким образом, с выпуском S609B у Nikon, намекавшей на скорый выпуск этого устройства на конференции SPIE Microlithography Conference, появился шанс немного обойти своих конкурентов ASML и Canon, на рынке оборудования для иммерсионной литографии.
В ответ ASML собирается представить сканер 1700i, также обеспечивающий апертуру более единицы, но, скорее всего, как и Canon, не успеет начать его поставки до конца этого года.
Nikon, в свою очередь, подчеркивает, что была первой, кто начал поставки систем с числовой апертурой 0,85 для производства по 90-нм нормам. Помимо высокой апертуры, S609B интересен еще и тем, что в нем использована технология «локального заполнения» (local fill – водой, надо полагать) и двухступенчатая конструкция, позволяющая добиться высокой скорости обработки подложек. На первой ступени происходит экспозиция пластин, на второй – калибровка. Ошибка при нанесении литографических рисунков не превышает 7 нм.
Что касается «локального заполнения», то эта технология, помимо скорости обработки 500 мм/с, позволяет избежать загрязнения обратной поверхности пластины и появления других неприятных эффектов, например, микропузырьков. Наконец, еще одна изюминка нового сканера – система подсветки Polano, в которой используется поляризованный свет. Утверждается, что контрастность изображений Polano на 20% выше, чем в системах с неполяризованным светом.
Ожидается, что поставки S609B начнутся во второй половине текущего года.