Пока весь мир с нетерпением ждет запуска 90-нм технологического процесса, Toshiba и трое ее партнеров, Tokyo Electron, Ebara и Dai Nippon Screen, объявили о начале совместной разработки 80-нм электронной литографической системы, использующей низкоэнергетические пучки электронов и не требующей дорогих фотомасок.
Toshiba сообщает, что уже исследовала возможность создания 100-нм и 80-нм литографического рисунка на поверхности полупроводника с помощью пучков электронов с энергией 2 КэВ, что не так уж и много для промышленности. Вместе три компании собираются основать корпорацию E-Beam, которая и займется производством литографического оборудования.
У электронной литографии есть свои преимущества: достаточно высокое разрешение и невысокая стоимость, но есть и серьезный недостаток – малая производительность. При текущем уровне развития этой технологии на обработку одной полупроводниковой пластины уходит примерно три часа.
Как отмечает один из разработчиков технологии, до тех пор, пока не станет возможным обрабатывать 10 и более пластин в час, говорить о перспективности коммерческого использования технологии нельзя. Впрочем, Toshiba разрабатывает электронную литографию уже около 20 лет, к тому же теперь у нее появились партнеры, так что глядишь, сообща они и добьются результатов.