Проект More Moore, финансируемый Европейской комиссией, и направленный на разработку новой технологии для полупроводникового производства EUVL (Extreme Ultra Violet Lithography), объявил о серьезном успехе, выпавшем на долю одного из участников - компании XTREME technologies GmbH.
Немецкая компания XTREME довела выходную мощность источника излучения до уровня, превосходящего тот, что был намечен планами проекта More Moore. В ходе контрольно-проверочного эксперимента была продемонстрирована мощность 800 Вт (в начале работ мощность составляла 120 Вт).
Технология EUVL предназначена для полупроводникового производства нового поколения, с соблюдением норм 32 нм. Для целей промышленного применения мощность нужно будет довести до 1 кВт к 2010 году, когда ожидается массовое внедрение технологии.
В проекте More Moore участвует большое количество компаний, включая ASML, Phystex, Zeiss, AMTC, Philips EUV, XTREME technologies, Focus, SIGMA-C, AZ Electronic Materials, Schott Lithotec, Philips, XENOCS, Sagem Defense Securite, Imagine Optic, EPPRA и Media Lario. Кроме того, членами проекта являются академические и исследовательские институты: IMEC, CEA Leti, CNRS, TNO, FOM Rijnhuizen, Fraunhofer Institute, ISAN (Институт спектроскопии РАН), ENEA, ELETTRA, NCSR.
Источники: MoreMoore, XTREME technologies