США могут первыми в мире взрастить собственного конкурента ASML. Стартап Substrate предлагает использовать для литографии рентгеновское излучение
Вместо ультрафиолетового
Современный мир сложно представить без компании ASML. Она неизвестна большинству обычных людей, не касающихся темы полупроводников, но именно её литографические машины используются почти всегда, когда речь заходит о создании хоть сколько-то современных чипов. И вот в США появилась компания, которая готова оспорить монополию голландцев.
Американский стартап Substrate планирует заняться разработкой литографических машин, работающих на несколько других принципах, нежели машины ASML.
Речь идёт о создании литографического оборудования, сопоставимого с установками ASML EUV, но вместо привычного экстремального ультрафиолетового излучения Substrate планирует использовать коротковолновое рентгеновское излучение, генерируемое ускорителем частиц.
Стартап уже привлек 100 млн долларов благодаря инвесторам, включая Founders Fund, и достиг оценки в 1 млрд долларов.
Substrate утверждает, что благодаря своей уникальной технологии может снизить стоимость использования по сравнению EUV-оборудованием ASML. Компания уже представила свою технологию, и некоторые эксперты назвали её впечатляющим достижением.
Substrate планирует использовать рентгеновское излучение с более короткой длиной волны, чем EUV-излучение 13,5 нм, что обеспечивает более надёжную печать. Стартап утверждает, что ему удалось значительно снизить стоимость литографии чипов.
