Производитель полупроводников Tower Semiconductor объявила о том, что ею закончен монтаж пилотной линии по производству чипов с применением норм 0,18 мкм техпроцесса. Линия, смонтированная на уже работающей Fab 1 компании, основана на 0,18 мкм CMOS процессе от японской Toshiba.
Новая линия будет выпускать прототипы заказных чипов, а массовый выпуск продукции начнется после ее переноса на Fab 2, которая в настоящее время находится в стадии строительства. После введения в строй, Fab 2 будет производить до 33 тысяч 200 мм пластин с применением 0,18 мкм техпроцесса в месяц.
Суммарная стоимость новой 0,18 мкм линии составляет порядка $130 млн. Источник: Silicon Strategies