Перспективы нынешней литографии глазами Intel, или «Прощай, SVG!»


«А я, если мне дать выбор, всегда за мир».
Р. Хайнлайн, «Дорога доблести»

Вчера произошло то, что давно должно было случиться: у Intel, в очередной раз накормленной «завтраками» от производителя литографического оборудования Silicon Valley Group Inc. (SVG), в очередной раз отложившей выпуск 193 нм аргон-фторидных (argon-fluoride, ArF) литографических сканеров, лопнуло терпение, и компания приняла решение исключить из своих планов использование такого оборудования от SVG. Фактором, сподвигнувшим Intel принять такое решение и отменить $100 млн. заказ, стали постоянные перенесения сроков начала поставки оборудования Silicon Valley Group Inc.

Такой поворот дел — серьезный удар и для «родительской» компании — голландской ASM Lithography, совсем недавно — два месяца назад, купившей SVG за $1,6 млрд. Шок настолько велик, что представители ASML в Голландии до сих пор отказываются дать какие-либо комментарии по поводу заявления Intel.

Сегодняшний пресс-релиз Intel — отнюдь не импульсивное отчаянное решение. У SVG «было окно для поставки 193 нм сканеров для Intel», заявил Марк Бор (Mark T. Bohr), член совета директоров Intel и глава отдела разработки архитектуры и интеграции компании. «Это окно теперь закрыто». Попробуем вспомнить предысторию развития событий.

Предыстория

Восемнадцать месяцев минуло с тех пор, как Intel разместила $100-миллионный заказ на 193 нм оборудование Micrascan от SVG (первые сообщения об этой сделке датированы еще 15 декабря 1999 года). Первоначально SVG намеревалась начать поставки сканеров Micrascan 193 в апреле текущего года, но 25 апреля было объявлено о переносе выпуска оборудования на июль. И вот прошел июль, и на торговой ярмарке Semicon West в Сан-Франциско представители ASML, которым теперь принадлежит SVG, вынуждены были подтвердить, что выпуск 193 нм литографического оборудования SVG отложен еще на три-четыре месяца. То есть, поставки начнутся не ранее октября.

Технологические планы Intel: коррективы, коррективы...

Задержки давно ожидаемого оборудования от SVG, что бы ни говорила Intel, прилично ударили по срокам введения новых технологических процессов компании.

Помните заявление Intel, сделанное на прошлой неделе, о том, что мол, 193 нм сканеры не очень то и нужны для нынешнего 0,13 мкм техпроцесса? В тот раз Intel парировала все домыслы о том, что такая задержка каким-либо образом отразится на графике поставок новых процессоров, выполненных с соблюдением 0,13 мкм технологического процесса. И, действительно, первые 0,13 мкм чипы Intel были анонсированы 30 июля.

Тогда представители Intel заявили, что использование 193 нм литографического оборудования от SVG для 0,13 мкм технологического процесса не пригодится, оно, мол, предназначено для использования в следующем поколении техпроцесса, для 100 нм (0,10 мкм) технологии P1262, которую Intel планирует задействовать в 2003 году.

Увы, тут не все так просто. На самом деле, первоначально планировалось применять SVG Micrascan 193 для 0,13 мкм техпроцесса, что позволяло бы Intel уклониться от использования весьма дорогих фазосдвигающих фотомасок (phase-shifting photomasks), необходимых для выпуска 0,13-микронных чипов c использованием «старых» 248 мкм DUV сканеров. В конце концов, Intel просто была вынуждена пойти по пути использования такой технологии в недавно представленных 0,13 мкм процессорах с ядром Tualatin. Соответственно, 0,13-микронный техпроцесс «P860», где в критичных местах — как минимум, в четырех из 20 слоев чипов — предполагалось участие 193 нм оборудования от SVG, увы, почил в бозе. Кстати, тут нелишним будет напомнить, что нынешние процессоры Tualatin выполнены на 248 мкм литографическом оборудовании от Nikon Corp.

Теперь официальные лица Intel всячески утверждают, что и без всяких 193 нм инструментов нынешний 0,13 мкм техпроцесс вышел неплохим, да и фазосдвигающие фотомаски, мол, удалось сделать недорогими. Однако, будем честными: подложенная SVG «свинья» (ладно уж, назовем вещи своими именами), во-первых, повысила себестоимость 0,13 мкм техпроцесса за счет применения фазосдвигающих фотомасок (отгадайте с одного раза: увеличился, уменьшился или остался прежним процент брака при использовании старого DUV оборудования?). Во-вторых, задержка лишила Intel возможности опробовать «переходную» технологию, которая, безусловно, будет использоваться в следующем 0,10 мкм техпроцессе P1262, но, увы, не сейчас. И, в-третьих, в несладкие для всей индустрии времена, как ни крути, все это здорово ударило по карману Intel. А то у нее своих проблем мало.

А что SVG?

Как уже успели отметить аналитики, ASML Holding — владелец SVG, теперь будет вынуждена здорово подкорректировать финансовые прогнозы на второе полугодие 2001 года. В начале апреля компании пришлось преодолеть массу преград, чтобы получить портфель заказов SVG. Министерство обороны США все же разрешило продажу американской SVG голландской ASM Lithography. Тем самым было устранено основное препятствие для сделки стоимостью $1,6 млрд. Министерство обороны США не давало разрешение на основании стратегической важности технологий компании SVG, в связи с дискуссиями в конгрессе США, где обсуждалась возможность утечки промышленных секретов в другие страны, главным образом, в Китай, с которым ASML тесно сотрудничает. ASML, в свою очередь, помимо получения передовых технологий SVG, получало отличный портфель заказов и сотрудничество со многими лидерами полупроводниковой индустрии.

До начала 2001 года дела у ASML шли весьма неплохо: в 2000 году чистая прибыль компании составила $322 млн., а оборот компании вырос до $1,2 млрд. В 2000 г. ASML впервые удалось пробиться на японский рынок, где ранее безраздельно властвовал ее основной конкурент — компания Nikon. На начало 2001 года у ASML уже был пакет заказов на сумму более $1,2 млрд., после покупки SVG к ним добавилось еще несколько девятизначных цифр, в том числе — заказы от Intel, Cypress, IBM и других производителей, использующих литографию SVG.

Так в чем же проблема?

Сейчас во всем мире насчитывается только четыре производителя такой техники: помимо ASML, японские компании Canon и Nikon, а также сама ASML, которая теперь является владельцем Silicon Valley Group (SVG), но, тем не менее, продолжает разработку своей собственной линейки 193 нм сканеров.

Увы, в этой отрасли в целом ситуация пока далека от идеальной. Большинство производителей 193 нм оборудования — не только SVG — просто не готовы предоставить оборудование по нескольким причинам, среди которых главным камнем преткновения считаются линзы для сканеров, состоящие из фторида кальция (CaF2), производство которых до сих пор толком никто не наладил. Некоторые проблемы также имеются со специальными материалами — фоторезистами и шаблонами. Говоря о проблемах, вызванных у производителей чипов задержками поставок оборудования SVG, никто, конечно, не упрекает ее в недобросовестности. Проблемы у всех одни, и задержки вызваны только технологическими факторами.

Intel: с кем дальше?

Годами Intel использовала литографическое оборудование от двух поставщиков — Nikon и SVG. Обе компании поставляли Intel 248 мкм литографические инструменты.

Конечно, Intel не прекратит использовать 248 мкм фотоэкспозиционные системы (step-and-scan systems) от SVG. Тем не менее, переход компании на использование новых 193 нм систем не за горами. Вопрос — чье оборудование будет использоваться?

Как не крути, а 193 нм сканеры все равно понадобятся Intel для массового производства чипов по технологии P1262. Будет ли задержана программа компании, по которой она рассчитывала в 2003 году перевести большинство своих фабрик, выпускающих 300 мм пластины, на использование этого техпроцесса?

Конечно будет, говорят эксперты, уже «натикало» несколько лишних месяцев, и что-то придется все равно предпринимать. Каковы же имеющиеся в распоряжении Intel альтернативы?

В настоящее время, по некоторым сообщениям, японская Nikon поставила Intel один из своих первых, но пока не серийных 193 нм сканеров. Речь идет не о линейке 193 нм литографических инструментов Nikon S305B, используемых Intel для опытно-конструкторских работ, а именно об оборудовании для массового производства — 193 нм сканерах «четвертого поколения» S306C, массовые поставки которых, увы, начнутся не ранее весны 2002 года.

Некоторые источники полагают, что одним из поставщиков такого оборудования для Intel может стать сама ASML. По иронии судьбы, совсем недавно (10 июля) главный конкурент Intel на поприще производства процессоров — компания AMD, рапортовала о начале поставок 193 нм литографических сканеров AT:1100 собственной разработки нынешнего владельца SVG — голландской ASML. Новый литографический сканер AT:1100 может применяться для производства 200 мм — 300 мм кремниевых пластин с нормами производства до 0,10 мкм. Литографические линзы StarLith 1100 для нового инструмента поставил давний партнер ASML — немецкая компания Carl Zeiss. AT:1100 предназначен, в первую очередь, для производства современных чипов DRAM и логики, а также может применяться в процессе производства микропроцессоров с числом транзисторов более 75 млн. На приобретение AT:1100, серийные поставки которого начнутся ближе к концу года, помимо AMD, уже подали заявки Infineon, Philips, Micron и TSMC. Некоторые источники утверждают, что ASML не отказалась бы поставить эти сканеры и Intel. Тем не менее, обе компании пока никак не комментируют такие слухи.

Еще один игрок на этом рынке — японская Canon, давно мечтает о сотрудничестве с Intel, однако, в настоящее время, никаких договоренностей о поставке оборудования компании не имеют. Впрочем, в сложившейся ситуации Intel вполне может пойти на соглашение с Canon — по заявлениям представителей компании, она станет одной из первых, кто начнет действительно массовые поставки 193 нм оборудования еще до конца 2001 года.

По самым последним данным, поступившим уже в момент верстки этой статьи, представители Intel выступили с заявлением, что, несмотря на все задержки и свой решительный пресс-релиз, предполагают возможность закупки оборудования и у SVG, если оно появится в разумные сроки.

Выводы

Следует отдать должное менеджменту Intel — в такой нелегкой ситуации никто не стал сетовать на «смежников». Просто компания оперативно нашла пути выхода из сложившейся ситуации и представила новые процессоры, выполненные по 0,13 мкм техпроцессу вовремя. Как видите, плавно ли осуществляется переход на новый техпроцесс или с нервотрепкой, порой зависит совсем не от производителя. Да и самой SVG теперь не позавидуешь: во время экономического спада, судя по истории экономики, достаточно оступиться совсем немного — и можно очень быстро вылететь в трубу. Или просто затопчут идущие по пятам конкуренты. Хотя, в данном случае, причины задержки выпуска оборудования вполне объективны.

В любом случае, конец 2001 года обещает быть бурным и очень богатым на новости в этой отрасли.

При написании материала были использованы пресс-релизы компаний,
а также материалы EE Times и Silicon Strategies



Дополнительно

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.