Минпромторг России объявил конкурс на разработку программного комплекса, который станет базовым звеном отечественной системы автоматизированного проектирования (САПР) для подготовки и изготовления фотошаблонов. Речь идет о ПО для работы с топологиями 90 нм и выше — то есть о сегменте, который нужен для проектирования и производства микросхем по относительно зрелым техпроцессам.
На разработку министерство выделило 943 млн рублей. Тендер опубликован 28 апреля 2026 года, а завершить работы планируется до 1 ноября 2028 года. Создаваемое решение должно включать несколько ключевых модулей: загрузку данных, визуальный контроль топологии, формирование эскизов, сборку фотошаблонов и другие инструменты, необходимые для подготовки производственной документации. Интересно, что ПО должно быть совместимо с целой линейкой белорусских лазерных генераторов фотошаблонов.
Проект стал логичным продолжением курса на импортозамещение в сфере проектирования микросхем. До 2022 года российские заказчики активно использовали решения Cadence и Synopsys, но после введения санкций их поставки в Россию были прекращены. На этом фоне Минпромторг ещё в 2024 году утвердил «дорожную карту» развития отечественных САПР до 2030 года, а общие затраты на НИОКР в этой области оценивались в 54,6 млрд рублей.
По плану, к 2030 году в России должны появиться около 100 различных платформ САПР, а совокупный рынок этого ПО должен заметно вырасти. Кроме того, в дорожной карте обозначено, что к 2030 году может начаться разработка САПР уже для более тонкого техпроцесса — 28 нм.
