Испытания первого российского литографа уже начались

С его помощью можно выпускать большеразмерные чипы до 350 нм. Следующим шагом станет литограф на 130 нм

Заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак сообщил, что первый российский литограф уже создан и проходит испытания. О планах по выпуску отечественного литографа Шпак упоминал ещё в конце прошлого года. Пока оборудование такого уровня сложности собирают лишь несколько мировых игроков, включая нидерландский ASML, Canon и Nikon.

«Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», – рассказал замминистра в кулуарах проходящей в Нижнем Новгороде конференции ЦИПР. Правда, российский литограф не предназначен для выпуска передовых 5- или 3-нм однокристальных систем, которые используются в современных смартфонах. Он позволяет создавать чипы размером до 350 нм – это большеразмерные решения, которые применяются в автопроме, энергетике и телекоммуникациях. 

Василий Шпак также рассказал, что российский литограф, который может обеспечить создание чипов размером 130 нанометров, собираются выпустить в 2026 году. Следующим шагом станет разработка 90-нанометрового литографа, а затем и оборудования с поддержкой более тонких техпроцессов, добавил замминистра.