Китай намерен совершить технологический прорыв в производстве микросхем уже в этом году

Китайские СМИ утверждают, что компания Shanghai Micro Electronics Equipment сможет поставить первую в Китае 28-нм литографическую машину собственного производства к концу этого года.

Известно, что доступ Китая к машинам для производства чипов, производимых голландской компанией Advanced Semiconductor Materials International (ASML), из-за давления США становится все более проблемным.

Теперь из сообщения местной газеты Securities Daily стало известно, что к концу года компания Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) поставит собственную SSA/800-10W, 28-нм литографическую машину. Необходимо отметить, что ещё в 2020 году появились утечки информации о том, что государственная фирма SMEE близка к тому, чтобы к концу того же года представить литографическую машину для иммерсионной глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии на основе 28-нм технологии.

Необходимо отметить, что китайская компания SMEE (​​в черном списке Министерства торговли США) не ответила в среду, 2 августа 2023 года, на запрос источника SCMP о комментариях.

Источник: SCMP