EUV
Компания Intel заказала у ASML первую в отрасли систему Twinscan EXE:5200
Это система для EUV-литографии в серийном производстве полупроводниковой продукции
Samsung начинает массовое производство 14-нанометровой памяти DRAM DDR5 с применением EUV
Новый пятиуровневый процесс EUV обеспечивает самую высокую в отрасли плотность хранения
У ASML готовы пелликулы для EUV-литографии
Их появление должно ускорить освоение норм 7 нм и менее в серийном производстве
Крупный производитель микросхем памяти закупит оборудование для EUV-литографии на сумму 4,34 млрд долларов
Контракт рассчитан на пять лет
_Samsung_16GB_LPDDR5_large.jpg)
Samsung начинает серийный выпуск чипов памяти LPDDR5 DRAM плотностью 16 Гбит
Это первая в отрасли оперативная память LPDDR5 DRAM, изготовленная по технологии 10-нанометрового класса третьего поколения (1z)
Imec и ASML показали получение линий с шагом 24 нм с использованием EUV-литографии с одной экспозицией
Этот прорыв необходим для успешного освоения норм 3 нм
На новой производственной линии Samsung Electronics начат серийный выпуск продукции с применением EUV-литографии
Эта линия выпускает продукцию по нормам 7 нм и менее
TSMC начинает крупномасштабные поставки продукции, изготовленной с использованием техпроцесса N7+
Это первый техпроцесс EUV, освоенный в серийном производстве
У Samsung готова 7-нанометровая технология EUV
Она превосходит обычную 7-нанометровую технологию по энергетической эффективности продукции
Huawei Kirin 985 может стать первой однокристальной системой, изготовленной с использованием EUV
По имеющимся оценкам, это позволит увеличить плотность размещения транзисторов на 20%
Стало известно, у кого и когда Nvidia закажет выпуск первых GPU по технологии EUV
Это произойдет довольно скоро
В Intel «вполне удовлетворены» прогрессом в разработке 7-нанометрового техпроцесса
Серийный выпуск процессоров Intel по 7-нанометровой технологии EUV запланирован на 2020 или 2021 год
ASML надеется заработать больше, ощутив увеличение спроса на оборудование для EUV-литографии
ASML повышает прогноз роста выручки
Samsung начинает производство 7-нанометровой продукции с использованием EUV
Техпроцесс 7LPP (Low Power Plus) позволяет уменьшить площадь кристалла, одновременно повысив производительность или уменьшив энергопотребление
Samsung будет использовать EUV в производстве датчиков изображения
Вероятно, внедрение EUV в производстве датчиков изображения произойдет уже на этапе 22 нм
Globalfoundries и Samsung рассчитывают начать выпуск 14-нанометровых чипов до конца года
Освоение EUV откроет путь к использованию 450-миллиметровых пластин
Переход на 450-миллиметровые пластины может быть отложен на два года
Массовое производство с использованием 450-миллиметровых пластин может начаться лишь в 2018 году
Samsung тоже инвестирует в разработку нового литографического оборудования ASML
Samsung последовала примеру Intel и TSMC
ASML ведет переговоры о продаже акций компаниям Samsung и TSMC
Samsung и TSMC могут рассчитывать на 10% акций ASML
Carl Zeiss получила два заказа на оборудование для литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне
Список потенциальных заказчиков включает GLOBALFOUNDRIES, Intel, Samsung Electronics и TSMC
ASML и IMEC продолжат совместную разработку оборудования для производства микросхем
В ноябре 2011 года ASML установит в IMEC систему NXT1950i