Компания ASML Holding NV, являющаяся ведущим разработчиком литографического оборудования, и исследовательский институт IMEC объявили о подписании соглашения о сотрудничестве, охватывающего период с 2011 по 2015 годы.
Партнеры имеют длительный опыт сотрудничества. Многолетняя совместная работа позволила создать несколько поколений литографического оборудования, работающего в оптическом и жестком ультрафиолетовом (EUV) диапазонах. Находящийся в Бельгии институт IMEC получил одну из первых альфа-версий оборудования для литографии с применением EUV. Оно установлено на экспериментальной фабрике, работающей с 300-миллиметровыми пластинами. В сотрудничестве с коллегами из нидерландской компании ASML, специалисты IMEC продолжат совершенствовать эту технологию, повышая производительность оборудования.
В ноябре 2011 года ASML установит в IMEC новейшее оборудование для иммерсионной литографии со 193-нанометровым источником излучения. Речь идет о системе NXT1950i. Для исследований в области литографии с применением EUV будет предназначен предсерийный образец системы NXE:3300B. Он является развитием системы ASML NXE:3100, установленной в IMEC весной текущего года.
Источник: IMEC