На торговой выставке Semicon Europa компания ASML наконец-то представила свои 193-нм литографические инструменты, обеспечивающие выпуск полупроводниковых интегральных микросхем по нормам 65 нм как с применением иммерсии (погружения в воду), так и без таковой.
Сканер ASML Twinscan XT:1400 обладает высокой числовой апертурой, благодаря чему он может «легким движением руки» превратиться в иммерсионный инструмент. Точнее, с помощью специального "immersion conversion kit." Система предназначена для использования в массовом производстве по 65-нм нормам, а также с ее помощью можно будет создавать прототипы 45-нм чипов. «Сухая» версия сканера будет доступна в декабре 2004 года, иммерсионная – в конце 2005.
Таким образом, XT:1400 станет иммерсионным сканером третьего поколения. Первый, 1150i, являлся прототипом нового класса устройств, а XT:1250i не предназначался для массового выпуска чипов. XT:1400 поставляется с набором программных и аппаратных средств Ultra-k1.
Тем временем конкуренты ASML, Canon и Nikon, также собираются представить в скором будущем свои иммерсионные системы. Правда, нынешняя Canon AS-3i пока способна создавать лишь 90-нм прототипы, а годный для массового производства новый сканер с числовой апертурой около 1,0 появится лишь к концу 2005 или началу 2006 года. Nikon же собирается запустить в серию свой степпер на ArF-оптике к концу 2005 – компания решила «пропустить» этап вывода на рынок устройств с апертурой 0,92, и ее коммерческий степпер будет обладать числовой апертурой 1,0. Nikon надеется опередить всех по этому показателю и обеспечить возможность массового производства по 60-нм номам к концу 2005 года.