Без Zeiss не было бы современных чипов: важнейший партнер ASML расширяет производство компонентов для EUV-литографии
Новая производственная площадка в Германии поможет ускорить выпуск литографических машин и устранить одно из главных узких мест отрасли
Немецкая компания Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology (Zeiss SMT) объявила об открытии новой производственной базы в Германии, которая позволит увеличить выпуск оптических компонентов для EUV-литографии.
Это важное событие для всей полупроводниковой отрасли, поскольку Zeiss SMT остается единственным в мире поставщиком высокоточной оптики для EUV-сканеров ASML. Фактически без продукции Zeiss невозможно производство современных литографических машин, используемых для выпуска передовых микросхем.
_large.png)
Именно производственные мощности Zeiss SMT считаются одним из главных факторов, ограничивающих темпы выпуска оборудования ASML. В годовом отчете компания предупреждала, что длительные перебои у поставщика способны серьезно повлиять на ее деятельность. Zeiss производит линзы, зеркала и системы освещения для EUV-сканеров, включая комплексы High-NA EUV. Одна такая проекционная система состоит более чем из 40 тыс. деталей, весит около 12 тонн, а изготовление отдельных зеркал занимает несколько месяцев.
Для расширения производства ASML выделила партнеру кредит на 1,91 млрд евро и аванс в размере 1,19 млрд евро. Совместная цель компаний — сократить время сборки каждой EUV-машины примерно с 22 до 15–16 недель и увеличить объемы поставок.
Закупки ASML у Zeiss SMT продолжают быстро расти: если в 2023 году они составили 3,33 млрд евро, то в 2024 году увеличились до 3,95 млрд евро, а в 2025 году достигли 4,41 млрд евро.
Комментарии