Главная » Новости » 2004 » 01 » 15 15 января 2004

Nikon начинает разработку EUV-сканеров, первые поставки — в 2006

Nikon официально объявила о том, что начиная с этого года начнет полномасштабную разработку EUV-литографической системы, поставки которой должны будут начаться в 2006 году. Что ж, если судить по количеству публикаций, то 2003 год можно было бы назвать годом иммерсионной литографии, в то время как начавшийся 2004, возможно, станет годом EUVL.

Как сообщает компания в своем релизе, Nikon не видит существенных препятствий к разработке такой системы и коммерческом внедрении ее в массовое производство микропроцессоров и DRAM по 45-нм и 32-нм нормам. Это также означает, что литография с применением 157-нм источников света так и не придет повсеместно на смену 193-нм литографическим инструментам, а скептическое отношение к EUVL (в частности, Intel, не ожидающая ее внедрения до 2009) может в корне измениться, особенно если предположить, что последние европейские амбициозные проекты (NanoCMOS & MoreMoore, см. ниже) также планируют достичь 45-нм норм к 2005-2007 годам.





По крайней мере, в последнем роадмэпе Nikon (увидевшем свет 1 декабря 2003 года) место 157-нм инструментов занимают 193-нм сканеры с ArF (фторид аргона) оптикой.





Уже во второй половине этого года ожидаются поставки иммерсионного 193-нм ArF сканера NSR-S307E (на фото), а в дальнейшем на смену 193-нм инструментам придут EUV-сканеры с длиной волны источника 13,5 нм.

Ссылки по теме:

14:07 15.01.2004
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
январь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2004

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.