В дни проведения конференции Semicon West (14 — 16 июля, Сан-Франциско) компания Canon намерена представить первый образец новой версии фотолитографического степпера FPA-6000ES6, идущего на замену FPA-6000ES5 и отличающегося повышенным разрешением и производительностью.
Несмотря на то, что уже известна даже цена новой установки — ¥1,6 млрд. (порядка $13,5 млн.), компания принимает заказы на поставку FPA-6000ES6 только на второй квартал 2004 года. О причинах 9-месячной задержки не сообщается.
Согласно заявлению представителей Canon, установка FPA-6000ES6 позволяет обеспечить выпуск чипов с нормами 100 нм техпроцесса при производительности порядка 147 кремниевых пластин диаметром 300 мм в час или 170 пластин диаметром 200 мм в час. FPA-6000ES5, представленная год назад, рассчитана на 110 нм техпроцесс и имеет производительность примерно на 5% меньшую: до 140 пластин диаметром 300 мм. Интересно отметить, что FPA-6000ES6 оборудована тем же 248 нм криптон-фторидным эксимерным лазером, однако, благодаря улучшенной 4:1 проекционной оптике и числовой апертуре 0.86, теперь стало возможным увеличение разрешения установки. В планах Canon — поставка до 50 таких установок в течение 2004 года.