Китай избавился от зависимости от импорта в производстве чипов

В субботу Китайский институт атомной энергии анонсировал завершение разработки высокоэнергетического ионного имплантера водорода POWER-750H. Устройство стало первым оборудованием такого класса, полностью созданным китайскими специалистами без использования иностранных технологий.

До настоящего момента китайские производители полупроводников полностью зависели от импортных установок высокоэнергетической ионной имплантации водородом. Институт атомной энергии применил наработки в области ядерной физики и технологий тандемных ускорителей для создания собственного решения. Разработка охватила все этапы производства — от базового проектирования до финальной системной интеграции.

Ионные имплантеры относятся к четырём основным типам оборудования в производстве полупроводников. Принцип работы основан на внедрении ускоренных ионов в кремниевые пластины, что изменяет электрические характеристики конкретных участков материала. Высокоэнергетические ионные пучки проникают в глубокие слои кремния, формируя внутренние структуры транзисторов и диодов. Технология требует контроля параметров на атомном уровне и обеспечения стабильности ионного пучка для предотвращения дефектов в готовых микросхемах.

Оборудование применяется в производстве энергоэффективных полупроводниковых компонентов и высококачественных датчиков изображения. Институт заявил, что производительность POWER-750H соответствует ведущим международным образцам аналогичного класса.

Разработка дополняет существующие достижения китайской полупроводниковой отрасли, включая оборудование для травления и литографические системы для упаковки чипов.

Источник: Interesting Engineering