Разработка, представленная компанией Applied Materials, позволит выпускать дисплеи высокого разрешения для планшетов и телевизоров следующего поколения. Речь идет о технологии усиленного плазмой химического парофазного осаждения (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD). Формирование пленок осаждением с применением плазмы позволяет снизить температуру, при которой протекает процесс, повысить плотность и чистоту пленки.
Нанесение диэлектрических пленок с помощью PECVD, как утверждается, открывает путь к использованию транзисторов на основе оксида металла, позволяя получать меньшие по размеру пиксели, характеризующиеся высокой скоростью переключения. Технология доступна для использования в системе Applied Materials AKT-PECVD.
Повышение чистоты пленок минимизирует количество дефектов в транзисторах и повышает стабильность их работы. Система AKT-PECVD позволяет формировать пленки SiO2 на стеклянных подложках площадью до 9 м2. Это важно с точки зрения снижения себестоимости и повышения процента выхода годной продукции, утверждает производитель.
В дополнение к PECVD, Applied разрабатывает улучшенные варианты технологии напыления конденсацией из паровой фазы (PVD), включая нанесение пленки оксида индия-галлия-цинка (IGZO), используемой в панелях с высокой плотностью пикселей.
Источник: Applied Materials