Главная » Новости » 2011 » 10 » 11 11 октября 2011

ASML и IMEC продолжат совместную разработку оборудования для производства микросхем

Компания ASML Holding NV, являющаяся ведущим разработчиком литографического оборудования, и исследовательский институт IMEC объявили о подписании соглашения о сотрудничестве, охватывающего период с 2011 по 2015 годы.

Партнеры имеют длительный опыт сотрудничества. Многолетняя совместная работа позволила создать несколько поколений литографического оборудования, работающего в оптическом и жестком ультрафиолетовом (EUV) диапазонах. Находящийся в Бельгии институт IMEC получил одну из первых альфа-версий оборудования для литографии с применением EUV. Оно установлено на экспериментальной фабрике, работающей с 300-миллиметровыми пластинами. В сотрудничестве с коллегами из нидерландской компании ASML, специалисты IMEC продолжат совершенствовать эту технологию, повышая производительность оборудования.

В ноябре 2011 года ASML установит в IMEC новейшее оборудование для иммерсионной литографии со 193-нанометровым источником излучения. Речь идет о системе NXT1950i. Для исследований в области литографии с применением EUV будет предназначен предсерийный образец системы NXE:3300B. Он является развитием системы ASML NXE:3100, установленной в IMEC весной текущего года.

Источник: IMEC

  • Теги:
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
октябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2011

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.