Главная » Новости » 2010 » 10 » 29 29 октября 2010

Intel, Samsung и Toshiba совместно займутся разработкой 10-нанометровой технологии

Для разработки и освоения технологий полупроводникового производства необходимы столь значительные средства, что даже самые крупные производители стремятся объединить усилия и разделить затраты. Компании Intel, Toshiba и Samsung Electronics решили совместно разрабатывать технологии, которые позволят к 2016 году использовать в производстве нормы 10 нм. Об этом сообщает источник со ссылкой на японское издание Nikkei Daily.

Напомним, Intel носит титул крупнейшего мирового производителя интегральных микросхем, а компании Samsung Electronics и Toshiba занимают первое и второе место соответственно в рейтинге производителей флэш-памяти типа NAND. План трех компаний предусматривает скорое создание консорциума, в который будут приглашены еще около десятка компаний, работающих в полупроводниковом производстве и смежных областях, например, выпускающих полупроводниковые материалы.

Компании Toshiba и Samsung рассчитывают воспользоваться плодами сотрудничества для выпуска по нормам 10-нанометрового класса флэш-памяти типа NAND и других чипов. Что касается Intel, этой компании новые технологии позволят выпускать более производительные микропроцессоры, утверждает Nikkei.

Интересно, что одним из вероятных инвесторов проекта названо Министерство экономики, торговли и промышлености Японии. Предполагается, что оно внесет примерно половину средств, необходимых на начальном этапе исследований. Оставшуюся часть распределят между собой члены консорциума.

Источник: Reuters

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА PATRIOT

Какие продукты, помимо компьютерной памяти, представлены в линейке Patriot – Viper Gaming?
октябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2010

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.