Главная » Новости » 2009 » 02 » 25 25 февраля 2009

Nikon готовит оборудование для новых техпроцессов

На мероприятии SPIE Advanced Lithography компания Nikon опубликовала свои планы по выпуску 193-нанометровых сканеров для «мокрой» и «сухой» литографии.

Кроме того, японская компания представила обновленную программу освоения технологии литографии в «жестком» ультрафиолетовом диапазоне (EUV). По словам Nikon, используя эту технологию, ей уже удалось добиться успеха при создании образцов 28-нанметровых чипов на исследовательских установках.

Пока готово два пробных экземпляра установки, один из которых сейчас используется специалистами Intel. В разработке находится еще один сканер для EUV, относящийся к опытной серии. Он будет установлен в исследовательском центре Nikon в Японии.

Что касается оборудования для иммерсионной литографии, компания обещает выпустить к четвертому кварталу сканер NSR-S620. Он был представлен в прошлом году, но его подробные технические данные пока не известны. Указанный сканер должен обеспечить массовое производство по нормам 32 нм и менее. Производственная платформа, частью которой станет NSR-S620, будет иметь производительность 200 пластин в час.

Одновременно компания сообщила о новом инструменте для 193-нанметровой «сухой» литографии, NSR-320F. Технические данные опубликованы не были, известно лишь, что NSR-320F появится на рынке в 2010 году.

Источник: EE Times

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 13 14 15 16 17 18 19 20 21 22 23 24 25 26 27 28
2009

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.