Главная » Новости » 2006 » 11 » 07 7 ноября 2006

TCE обещает начать серийный выпуск 45-нм фотошаблонов в 2007 году

Гонка за освоение техпроцесса по нормам 45 нм вступает в тот этап, когда производители называют сроки выпуска серийной продукции. По данным источника, Toppan Chunghwa Electronics (TCE), дочернее предприятие японской Toppan Photomasks, готовится выпускать фотошаблоны для 45-нм техпроцесса уже в будущем году.

Более того, TCE уверена, что сможет заменить в роли основного поставщика фотошаблонов на тайваньском рынке компанию Taiwan Mask Corporation (TMC), которой сейчас принадлежит около 60% рынка.

Тому есть серьезные основания. В прошлом месяце TCE начала отправку потребителям 80-нм фотошаблонов. Серийно производятся и 70-нм фотошаблоны, предназначенные для выпуска микросхем памяти DRAM. Последнее достижение – прогресс в освоении фотошаблонов для 45-нм техпроцесса. Как утверждает компания, они запланированы к серийному выпуску во второй половине 2007 года.

Источник: DigiTimes.com

Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
ноябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2006

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.