Nikon сообщила сегодня о том, что собирается ускорить темпы выпуска на рынок иммерсионных литографических систем. Ранее компания планировала начать продажи 193-нм иммерсионных продуктов в 2006 году, а теперь начало выпуска перенесено на второе полугодие 2005.
Кроме того, Nikon обещает достичь числовой апертуры 1,0 и более уже к началу продаж первых продуктов, то есть, ко второй половине 2005. Надо полагать, что компанию подстегнул успех ASML, уже начавшей продажи иммерсионных сканеров с числовой апертурой 0,85. Если Nikon удастся осуществить свои планы, то, возможно, у компании появится преимущество перед своим конкурентов в виде большей числовой апертуры.
Впрочем, в сегодняшнем сообщении Nikon содержится заверение в том, что по желанию заказчиков фирма готова поставлять иммерсионные сканеры и с апертурой 0,85.
Ссылки по теме:
- TSMC начнет выпуск 65-нм чипов в 2005 году с применением иммерсионной литографии
- Иммерсионная литография позволит создавать чипы по 35-нм нормам
- В ближайшие 27 месяцев в Европе будет море Мура
- NanoCMOS: суждено ли европейцам реализовать свои амбиции?
- Иммерсионные и импринт-литографические технологии вытеснят EUV?
- International EUV Symposium: Intel о коммерциализации EUV. CaF по-прежнему дороже золота