Похоже, что за заказ AMD на литографическое оборудование для 300-мм завода по выпуску флэш-памяти в Германии завязалась нешуточная борьба между ASML, Canon и Nikon. Как сообщил Дэвид Беннетт (David Bennett), директор стратегических технологий и альянсов AMD, также в ближайшем будущем компания должна будет принять решение, избрать ей иммерсионные технологии с последующим внедрением их в массовое производство по 65-нм нормам, или обойтись традиционным «сухим» оборудованием. Беннет прозрачно намекнул, что внедрение иммерсионной литографии может означать закрытие 157-нм литографической программы и исключение ее из планов компании.
До сих пор основными вендорами оборудования для AMD являлись голландская ASML и японская Canon. Большую часть оборудования компании составляют 248-нм и 193-нм сканеры ASML, которые обрабатывают большинство полупроводниковых пластин для микропроцессоров AMD. В то же время производство флэш-памяти ведется в основном на оборудовании Canon. Последняя также является поставщиком оборудования для совместного предприятия AMD и Fujitsu, FASL.
Некоторые наблюдатели высказывают мнение, что решение, в конечном счете, будет принято с учетом интересов еще одной стороны – IBM, являющейся партнером AMD. Между IBM и AMD существует соглашение, по которому компании совместно разработают технологические детали выпуска чипов с нормами 65 и 45 нм на 300-мм пластинах, а IBM склоняется к закупкам оборудования у ASML. Во всяком случае, на 90-нм заводе IBM использует именно ее 193-нм оборудование. Однако, хотя Беннетт и признал необходимость выполнения соглашения с IBM, немалую роль для принятия решения сыграет цена: 193-нм сканеры ASML стоят от $12 до $20 млн., в то время как Canon и Nikon продают свои устройства по цене от $8 до $15 млн. Для AMD, только в последнем квартале 2003 года вышедшей из убытков (правда, очень эффектно – многократно превысив ожидания), цена играет далеко не последнюю роль, хотя отмечается, что в рамках сотрудничества с ASML замена уже установленных сканеров и степперов на новые происходит не так уж и дорого. Nikon, не поставлявшая до сих пор литографического оборудования AMD, попала в список возможных поставщиков благодаря своим успехам в области иммерсионных технологий.
Тем временем несмотря на уже достигнутые успехи (достижение 35-нм норм в RIT), разработчики иммерсионных технологий не собираются останавливаться на достигнутом. Так, исследователи MIT сообщают о необходимости дальнейшего исследования возможности замены воды на жидкости с большим коэффициентом преломления и предлагают свои соображения, подхваченные TSMC. Использование погружения в воду с коэффициентом преломления 1,44 позволяет получить изображения от источника с эффективной длиной волны 134 нм. Для того, чтобы состязаться с 193-нм сканерами, 157-нм оптика должна также погружаться в жидкость с коэффициентом преломления порядка 1,5 или больше. Однако успешно используемая для 193 нм вода слишком сильно поглощает излучение на длине волны в 157 нм, а рассматриваемый в качестве кандидата перфлюорополиэфир (perfluoropolyether PFPE) обладает коэффициентом преломления в 1,38. В то же время исследователи Sematech говорят о том, что добавление в воду фосфатов позволяет увеличить этот показатель до 1,6. Кто знает, возможно, что 157-нм сканеры и будут порекомендованы для производства чипов по нормам менее 32-нм, ведь производителям хочется надеяться, что деньги в их разработку были вложены не зря. Но – на горизонте уже маячит EUV, а значит, надеяться 157-нм литографии особенно не на что.