Главная » Новости » 2001 » 07 » 10 10 июля 2001

193 нм ArF сканер для производства 300 мм пластин от ASML

Голландская ASM Lithography анонсировала выпуск 193 нм аргон-фторидного (argon-fluoride, ArF) экспозиционного инструмента. Новый литографический сканер AT:1100 может применяться для производства 200 мм - 300 мм кремниевых пластин с нормами производства до 100 нм (0,10 мкм).

Литографические линзы StarLith 1100 для нового инструмента поставил давний партнер ASML – немецкая компания Carl Zeiss. AT:1100 предназначен, в первую очередь, для производства современных чипов DRAM и логики, а также может применяться в процессе производства микропроцессоров с числом транзисторов более 75 млн.

ASML сообщила, что на новый инструмент AT:1100, поставки которого начнутся ближе к концу года, уже получены заявки от Infineon, Philips, Micron и TSMC.

Сейчас, во всем мире, насчитывается только четыре производителя такой техники: помимо ASML, японские компании Canon и Nikon, а также Silicon Valley Group (SVG), которая совсем недавно купила ASML за $1,6 млрд., но, тем не менее, продолжает разработку своей собственной линейки 193 нм сканеров.

Источник: Silicon Strategies

13:14 10.07.2001
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ОПРОС Micromax

С какой периодичностью вы меняете смартфоны?
июль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2001

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.