В Японии уже формируются альянсы, занимающиеся серьезной подготовкой к практическому внедрению 70 нм литографии. Первый из них - Semiconductor Leading Edge Technologies Inc. (Selete) и три конкурирующих японских производителя масок (Dai Nippon Printing Co. Ltd, Toppan Printing Co. Ltd и Hoya Corp) согласились о начале исследований, направленных на разработку масок, сделанных по 0,07 мкм технологии с помощью 157 нм лазера фторидного (fluorine, F2). Второй - это объединение усилий Tokyo Electron и Canon, которые должны заняться отладкой производства и устранением возможных ошибок, которые могут возникнуть при применении лазера F2.
В рамках первого альянса, три производителя масок согласились работать вместе для того, чтобы потом сократить свои расходы на самостоятельное исследование и разработку. Уже называются даже сроки, на которые ориентирует новый альянс - исследования должны закончится в марте 2004 года, а затем должны начаться испытания нового оборудования.
Что же касается Tokyo Electron и Canon, то они в скором времени начнут испытания новой технологии. Tokyo Electron должна поставить свою напылительную машину, готовую к работе с 300 мм пластинами в лабораторию Canon, где строится экспериментальная 70 нм литографическая установка.
Canon, в свою очередь, работает над 70 нм оборудованием вместе с немецкой Infineon. Первое оборудование для 0,07 мкм процесса должно быть готово к испытаниям уже во втором квартале 2003 года.
Источник: EE Times Asia