Главная » Новости » 2002 » 01 » 03 3 января 2002

Альянсы по разработке 70 нм литографии

В Японии уже формируются альянсы, занимающиеся серьезной подготовкой к практическому внедрению 70 нм литографии. Первый из них - Semiconductor Leading Edge Technologies Inc. (Selete) и три конкурирующих японских производителя масок (Dai Nippon Printing Co. Ltd, Toppan Printing Co. Ltd и Hoya Corp) согласились о начале исследований, направленных на разработку масок, сделанных по 0,07 мкм технологии с помощью 157 нм лазера фторидного (fluorine, F2). Второй - это объединение усилий Tokyo Electron и Canon, которые должны заняться отладкой производства и устранением возможных ошибок, которые могут возникнуть при применении лазера F2.

В рамках первого альянса, три производителя масок согласились работать вместе для того, чтобы потом сократить свои расходы на самостоятельное исследование и разработку. Уже называются даже сроки, на которые ориентирует новый альянс - исследования должны закончится в марте 2004 года, а затем должны начаться испытания нового оборудования.

Что же касается Tokyo Electron и Canon, то они в скором времени начнут испытания новой технологии. Tokyo Electron должна поставить свою напылительную машину, готовую к работе с 300 мм пластинами в лабораторию Canon, где строится экспериментальная 70 нм литографическая установка.

Canon, в свою очередь, работает над 70 нм оборудованием вместе с немецкой Infineon. Первое оборудование для 0,07 мкм процесса должно быть готово к испытаниям уже во втором квартале 2003 года.

Источник: EE Times Asia

13:49 03.01.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА PATRIOT

Какие продукты, помимо компьютерной памяти, представлены в линейке Patriot – Viper Gaming?
январь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.