Главная » Новости » 2002 » 04 » 18 18 апреля 2002

1,5-кВт лазер для EUV-литографии: проблема с источниками излучения частично решена

Мы уже рассказывали о проблемах с мощными источниками излучения в ультрафиолетовой литографии (EUV). Частично эту проблему позволяет решить новый лазер компании CEO (Cutting Edge Optronics) мощностью 1,5 кВт, который можно будет использовать для генерации плазмы в ультрафиолетовой литографии.

В СЕО говорят, что в источнике ELPS-600 будет использовано три таких лазера, мощность которых в сумме равна 4,5 кВт. При этом выход источника не превышает 25 Вт, однако в компании радуются уже и этому, говоря, что все-таки это некоторый прорыв в EUV.

Источник: ExtremeTech

16:00 18.04.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



ВИКТОРИНА PATRIOT

Какие продукты, помимо компьютерной памяти, представлены в линейке Patriot – Viper Gaming?
апрель
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.