Главная » Новости » 2002 » 05 » 16 16 мая 2002

157-нм литография: версия Sematech

По окончании ежегодной встречи с экспертами Sematech сообщила СМИ о том, что 157-нм литография появится уже в ближайшем будущем. Это внушает определенный оптимизм компании насчет перспектив 157-нм литографии.

На прошедшей неделе в Далласе встретились около 140 представителей различных компаний-производителей полупроводниковых устройств и материалов. Основной проблемой, которая стояла до сих пор перед Sematech, было внутреннее двойное лучепреломление в кристаллах <111> и <100>. В прошлом году Sematech провела совместно с Национальным Институтом Стандартизации Технологии США количественное исследование двулучепреломления во фториде кальция (CaF2), который, в основном, и используется для изготовления линз.

Таким образом, первым шагом на пути преодоления этой проблемы было создание отожженных <111> кристаллов, удовлетворяющих требованиям гомогенности и двулучепреломления при приложенном механическом напряжении. Кроме этого, Sematech говорит, что за последние месяцы был достигнут значительный прогресс в снижении эффекта двойного лучепреломления в <100> кристаллах.

Следующим шагом на пути к 157-нм литографии станет решение проблем с мягкой оболочкой фотомасок. Пока что процесс подбора полимеров, подходящих по прозрачности, идет медленно. Возможно, что для фотомасок будут использованы более твердые материалы, нежели те, что используются сейчас.

Так или иначе, в Sematech уверены, что 157-нм литография скоро будет готова, что называется, к массовому использованию. Правда, к тому моменту размер элементов полупроводниковых чипов уменьшится уже до 0,065 мкм.

Источник: PC Watch

21:25 16.05.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



май
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.