Во всяком случае, так считают специалисты, собравшиеся на прошедшем недавно в Бельгии третьем Международном Симпозиуме по 157-нм литографии. Как сообщил Тони Йен, со-председатель симпозиума и директор литографического центра SEMATECH (ISMT), разработка линз для 157-нм оборудования первого поколения завершена и производители подтверждают готовность начать поставки 157-нм сканеров поставки к 2004 году. Также сообщается, что найдено решение проблемы двойного лучепреломления во фториде кальция и подготовлены фоторезистивные материалы.
Симпозиум был организован IMEC и международной организацией SEMATECH в содружестве с японским консорциумом производителей чипов SELETE. В августе 2003 года в Йокогаме состоится следующий, четвертый по счету симпозиум по 157-нм литографии.