Главная » Новости » 2002 » 09 » 19 19 сентября 2002

Основные трудности, стоящие перед 157-нм литографией, преодолены

Во всяком случае, так считают специалисты, собравшиеся на прошедшем недавно в Бельгии третьем Международном Симпозиуме по 157-нм литографии. Как сообщил Тони Йен, со-председатель симпозиума и директор литографического центра SEMATECH (ISMT), разработка линз для 157-нм оборудования первого поколения завершена и производители подтверждают готовность начать поставки 157-нм сканеров поставки к 2004 году. Также сообщается, что найдено решение проблемы двойного лучепреломления во фториде кальция и подготовлены фоторезистивные материалы.

Симпозиум был организован IMEC и международной организацией SEMATECH в содружестве с японским консорциумом производителей чипов SELETE. В августе 2003 года в Йокогаме состоится следующий, четвертый по счету симпозиум по 157-нм литографии.

Источник: PC Watch

18:26 19.09.2002
Оценить новость

Не работают комментарии или голосования? Читайте как почистить куки



сентябрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс
2002

Нашли ошибку на сайте? Выделите текст и нажмите Shift+Enter

Код для блога бета

Выделите HTML-код в поле, скопируйте его в буфер и вставьте в свой блог.