Импринт-литография сделает возможным производство по 10-нм нормам

1174

Появившаяся сравнительно недавно импринт-литография привлекает к себе все больше внимания и в Сети уже давно ходит множество слухов о ее преимуществах перед традиционной. В Европе, США и Японии прошло несколько конференций, посвященных импринт-литографии, а на страницах EE Times Online появилось довольно подробное описание технологии, как его дала компания MII (Molecular Imprints Inc.), первым клиентом которой, если верить слухам, будет Motorola. Изложим основные положения.

Прежде всего, скажем пару слов о том, почему импринт-литография возбудила такой к себе интерес среди полупроводниковой промышленности: считается, что в перспективе применение наноскопической печати на полимерах через маску масштаба 1:1 и использование света в ультрафиолетовом диапазоне будет намного дешевле традиционных методов, так как нет необходимости городить сложную и дорогую оптику. В настоящее время для нанесения рисунка используются маски масштаба 4:1 и если нужно точное уменьшение рисунка маски, требуется хорошая оптика. В принципе, в качестве альтернативы можно использовать фазосдвигающие маски, но опять-таки встает вопрос об их стоимости.





Итак, процесс нанесения рисунка на подложку до травления или напыления в импринт-литографии не зависит от качества применяемой оптики. Мономер, покрывающий поверхность кристалла, под действием ультрафиолетового излучения полимеризуется и застывает на поверхности. Этот процесс аналогичен использованию фоторезиста для печатных плат, но в отличие от фоторезиста мономер содержится в растворе и легко удаляется при необходимости, оставляя желаемый рисунок на поверхности подложки. При этом на формирование рисунка требуется всего несколько нанолитров.

В 1997 году исследователи из Принстонского Университета уже демонстрировали литографическую технологию, позволяющую рисовать дорожки шириной 10 нм. Однако проблемы начинаются, когда требуется выровнять слои полупроводника, коих в типичных микросхемах бывает до 20 штук. До сих пор MII и Nanonex смогли представить технологии, позволяющие выровнять уровни лишь с точностью не лучше 500 нм, хотя в современной полупроводниковой промышленности требуется не более 50-100 нм. Правда, Nanonex утверждает, что в скором будущем сможет решить проблему с выравниванием слоев, используя обратный сканирующий туннельный микроскоп, разработанный в Принстоне. Таким образом, та компания или исследовательская группа, что сможет решить проблему с выравниванием слоев, сможет смело сушить лавры и на них почивать.

А когда импринт-литография дойдет до стадии применения в промышленности, тут уже начнутся чудеса: производительность полупроводникового завода может достигнуть небывалых высот, ведь для нанесения одного слоя требуется всего 20-30 с, а в час возможна обработка до 2500 пластин! Кроме того, импринт-литография откроет новые горизонты для молекулярной электроники, дав возможность почти в буквальном смысле печатать схемы с точностью до нескольких молекул мономера.

23 декабря 2002 Г.

16:36

Ctrl
ПредыдущаяСледующая

Все новости за сегодня

Материнская плата ASRock X299E-ITX/ac для процессоров Intel в исполнении LGA 2066 представлена официально: ASRock X299E-ITX/ac оценена в $400

В серию твердотельных накопителей Samsung 860 Evo войдут модели объемом до 4 ТБ: Твердотельные накопители Samsung 860 Evo замечены в базе данных SATA-IO1

Казахстан запустит платформу Stasis с первой криптовалютой, обеспеченной реальными деньгами: Stasis — финансово-технологическая инфраструктура для запуска нового цифрового актива2

Тестирование мобильных APU Ryzen показывает, что они вполне могут составить конкуренцию CPU Intel поколения Kaby Lake Refresh: APU Ryzen 7 2700U сравнили с CPU Core i7-8550U11

Беспроводная мышь Microsoft Surface Precision Mouse оценивается в 100 долларов: Microsoft представила мышку Surface Precision Mouse20

Apple делает доступной для разработчиков третьи бета-версии tvOS 11.1 и watchOS 4.1: Операционные системы tvOS 11 и watchOS 4 были выпущены месяц назад25

Представлены ноутбуки Microsoft Surface Book 2. Старшая модель оснащается видеокартой GeForce GTX 1060 и весит 1,9 кг: Ноутбук Microsoft Surface Book 2 доступен в двух модификациях49

Появились первые изображения видеокарты Gigabyte GeForce GTX 1070 Ti : Gigabyte GeForce GTX 1070 Ti G1 Gaming будет полной копией модели GTX 1070 G1 Gaming 8G (rev.2.0)6

Представлен ZTE Axon M — складной смартфон с двумя экранами, одной камерой и массой 230 г: ZTE представила складной смартфон Axon M8

997
1318

iXBT TV

  • Планшеты для подводного чтения, дешевый безрамочный смартфон и автономная VR-гарнитура

  • Обзор 3D-принтера Funtastique Evo: дешевая, но вполне функциональная DIY-модель

  • Обзор робота-пылесоса Polaris PVCR 0920WV Rufer с функцией влажной протирки полов

  • Новинки Google на любой вкус: Pixel 2, Pixel 2 XL, Pixelbook, Clip, Home Mini и Max

  • Обзор водонепроницаемого бинокля Canon 10x42L IS WP с оптическим стабилизатором

  • Обзор компактного вертикального пылесоса Kitfort КТ-525

  • Обзор 15-дюймового игрового ноутбука MSI GE63VR 7RF Raider 4K с 4K-экраном

  • Ракета вместо самолета, умные AC Amazon, робот-мяч

  • Обзор парогенератора MIE Stiro Pro для глажки, отпаривания и уборки дома

  • Обзор изогнутого 37,5-дюймового IPS-монитора Acer XR382CQK с соотношением сторон 21:9

  • Обзор робота-полотера Everybot RS500

  • Гарнитура 8K VR, беспроводная революция, Яндекс в каждое авто

1212

Календарь

декабрь
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс

Рекомендуем почитать