Nikon официально сообщила о том, что рассмотрит возможность перехода на 157-нм или 193-нм иммерсионную литографию. Сообщение Nikon стало своего рода ответом на заявление Intel об отказе от применения в будущем 157-нм литографических инструментов.
Nikon и ASML являются основными поставщиками литографического оборудования для Intel, продающими компании 248-нм и 193-нм сканеры и степперы. Обе компании до сих пор являлись сторонниками внедрения 157-нм инструментов.
Как сообщил вице-президент Nikon Фрэнк Маскйоччи (Frank Masciocchi), решение о том, какая из двух технологий будет предпочтительнее, будет принято к концу года.