Компания Nikon объявила о том, что ее подразделение Nikon Precision Equipment приступило к поставке первой коммерческой электронно-лучевой литографической (electron projection lithography, EPL) системы. Первым заказчиком, получившим EPL-систему от Nikon, стала японская Selete (Semiconductor Leading Edge Technologies) – созданная в 1996 году R&D компания, акционерами которой являются десять ведущих японских производителей полупроводников.
EPL-система от Nikon, названная NSR-EB1A, имеет габариты 9 х 9,7 метров. Монтаж системы начат 28 июня. Для этого специально подготовлено сверхчистое помещение класса "Super Clean Room" в Цукуба (Tsukuba), префектура Ибараки. Начало эксплуатации системы, после сборки и настройки оборудования, ожидается в ноябре.
Система NSR-EB1A, или просто EB1, работает со специальными круглыми 200 мм масками на основе кремниевых пластин толщиной 2 мкм. Для увеличения производительности Nikon объединила технологию электронно-лучевой литографии с новыми оптическими проекционными системами, в разработке которых, кстати говоря, принимала участие IBM. По предварительным данным, скорость обработки заготовок новой системой составит порядка семи 300 мм пластин в час. Инструмент EB1 будет использоваться лишь для R&D работ с нормами 65 нм, для массового производства с нормами 65 нм, 45 нм и даже для исследований 32 нм техпроцесса будет выпущена версия EB2. Начало производства систем EB2 намечено в роадмэпе Nikon на конец 2004 года.