Как уже сообщалось, в ближайшие два года корпорация Intel планирует выделить 7 млрд. долл. на строительство и модернизацию полупроводниковых производств, расположенных в США.
Сумма огромная даже для такого гиганта, как крупнейший в мире производитель микропроцессоров. Источник попытался ответить на интересующий многих вопрос — как именно будут потрачены эти деньги?
Известно, что инвестиции адресованы существующим фабрикам Intel, расположенным в США. Средства пойдут на переоснащение этих предприятий, которое позволит выпускать микросхемы с соблюдением норм 32 нм. Переоборудованию будут подвергнуты две 45-нанометровые фабрики и одна 65-нанметровая.
Хронологически, сумму 7 млрд. долл. планируется разделить на две равные доли между 2009 и 2010 годами. В реальности, однако, Intel придется несколько сократить капиталовложения в 2009 году, полагают аналитики. Кроме того, частично будет сохранена возможность выпуска продукции по нормам 45 нм.
Предприятия Fab 22 и Fab 32, находящиеся в Аризоне, будут преобразованы в одну гигантскую фабрику, которая унаследует обозначение Fab 32. Существующая Fab 32 вступила в строй совсем недавно, в 2007 году, первой среди мощностей Intel начав массовый выпуск 45-нанметровых продуктов. Переоборудование здесь начнется в середине года и будет завершено к концу 2010 года. На него будет выделено 3 млрд. долл.
Сумму в размере 2,5 млрд. долл. Intel планирует потратить на переоснащение фабрики Fab 11X, расположенной в штате Нью-Мексико, которая сейчас тоже начинает выпуск продукции по нормам 45 нм.
Оставшиеся 1,5 млрд. долл. предназначены для расширения фабрики D1D в штате Орегон.
Источник: EE Times