Новая технология DuPont


Группа ученых техасского университета разработала новую технология производства полупроводниковых кристалов, используемых в микропроцессорной промышленности. Открытие позволит в разы увеличить скорость микропроцессоров, при сравнимых (с сегодняшними) затратах на производство. Ученым, работающим совместно с DuPont Photomasks удалось получить кремниевую пластину, или так называемую вафлю, по технологии 0,08 микрона. Для сравнения самые современные процессоры сегодня производятся по 0,25 микронной технологии, а еще совсем недавно их делали из 0,35 микронных пластин.

Следущим же шагом на пути развития полупроводниковой индустрии будет внедрение в 1999 году 0,18 микронной технологии. Правда, надо отметить, что недавно корпорация Intel начала строительство нового завода в Орегоне, который будет использовать 0,13 микронную технологию. Похожее известие поступило и из Японии от компании Sony.

При разработке чипа, для вытравливания дорожек, применялся обыкновенный ультрафиолетовый свет, другими словами, теперь не придеться тратить огромные суммы на разработку обоудования следующего поколения, использующего для тех же целей Рентгеновское излучение или электроны.

Кстати сказать, завод по выпуску чипов по 0,25 микронной технологии стоит сейчас порядка 2-2,5 миллиардов долларов. Заводы следующего поколения (0,18 микрон) стоят 3-4 миллиарда. Открытие американских ученых позволяет использовать текущие технологии и оборудование, срок службы которого автоматически продлевается аж до 2009 года.

Ранее высказывались сомнения относительно полотности расположения транзистоов на кристалле. Утверждают даже, что невозможно устранить помехи и наводку уже при технологии менее 0,1 микрона, а максимальную скорость ограничивали величиной в 1500MHz.

Теперь же прогнозируется к 2003 году выпуск в коммерческих объемах процессоров с тактовой частотой 1500MHz, которые будут содержать более 18 миллионов транзистров на кристалле.




Дополнительно

New Dupont Tech

Новая технология DuPont

Группа ученых техасского университета разработала новую технология производства полупроводниковых кристалов, используемых в микропроцессорной промышленности. Открытие позволит в разы увеличить скорость микропроцессоров, при сравнимых (с сегодняшними) затратах на производство. Ученым, работающим совместно с DuPont Photomasks удалось получить кремниевую пластину, или так называемую вафлю, по технологии 0,08 микрона. Для сравнения самые современные процессоры сегодня производятся по 0,25 микронной технологии, а еще совсем недавно их делали из 0,35 микронных пластин.

Следущим же шагом на пути развития полупроводниковой индустрии будет внедрение в 1999 году 0,18 микронной технологии. Правда, надо отметить, что недавно корпорация Intel начала строительство нового завода в Орегоне, который будет использовать 0,13 микронную технологию. Похожее известие поступило и из Японии от компании Sony.

При разработке чипа, для вытравливания дорожек, применялся обыкновенный ультрафиолетовый свет, другими словами, теперь не придеться тратить огромные суммы на разработку обоудования следующего поколения, использующего для тех же целей Рентгеновское излучение или электроны.

Кстати сказать, завод по выпуску чипов по 0,25 микронной технологии стоит сейчас порядка 2-2,5 миллиардов долларов. Заводы следующего поколения (0,18 микрон) стоят 3-4 миллиарда. Открытие американских ученых позволяет использовать текущие технологии и оборудование, срок службы которого автоматически продлевается аж до 2009 года.

Ранее высказывались сомнения относительно полотности расположения транзистоов на кристалле. Утверждают даже, что невозможно устранить помехи и наводку уже при технологии менее 0,1 микрона, а максимальную скорость ограничивали величиной в 1500MHz.

Теперь же прогнозируется к 2003 году выпуск в коммерческих объемах процессоров с тактовой частотой 1500MHz, которые будут содержать более 18 миллионов транзистров на кристалле.