Samsung Electronics начинает строительство производственной линии, где будет использоваться литография EUV

Строительство завершится во втором полугодии 2019 года, а к началу производства линия должна быть готова в 2020 году

ПредыдущаяСледующая

Подтверждая неофициальную информацию, компания Samsung Electronics сегодня объявила о начале строительства линии про производству полупроводниковой продукции с использованием литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV).

Строительство завершится во втором полугодии 2019 года, а к началу производства линия должна быть готова в 2020 году

По мнению производителя, новая линия позволит ему «упрочить лидерство в технологических процессах с нормами, измеряемыми единицами нанометров».

Говоря более конкретно, в Samsung решили использовать EUV, начиная с 7-нанометрового техпроцесса, оптимизированного по критерию энергопотребления микросхем (Low Power Plus или LPP).

Ожидается, что строительство завершится во втором полугодии 2019 года, а в 2020 году начнется освоение производства. Первоначальные инвестиции в предприятие на период до 2020 года оцениваются в 6 млрд долларов. В зависимости от потребностей рынка эта сумма может быть увеличена.

23 февраля 2018 Г.

13:07

Ctrl
ПредыдущаяСледующая

Все новости за сегодня

Календарь

февраль
Пн
Вт
Ср
Чт
Пт
Сб
Вс