Исследовательский центр imec и компания Cadence Design Systems сообщили о завершении подготовки к передаче в производство первого 5-нанометрового кристалла, рассчитанного на изготовление с использованием литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV) и иммерсионной литографии с длиной волны 193 нм (193i).
Чтобы подготовить тестовый кристалл, imec и Cadence оптимизировали правила проектирования, библиотеки и технологию размещения и трассировки. Используя в качестве тестового образца процессор, специалисты imec и Cadence вывели несколько вариантов изделия в расчете на технологию EUV и 193i с применением четырехразового формирования структур с самовыравниванием (SAQP). При этом металлические площадки были уменьшены с номинального шага 32 нм до 24 нм.
Для проектирования использовалась система Innovus Implementation System, в которой архитектура с массовым параллелизмом объединена с передовыми приемами оптимизации.
Источник: imec