MoreMoore (дословно – больше Мура) – так называется еще один европейский научно-исследовательский проект, стартовавший в 2004 году при участии ASML. Как и NanoCMOS, MoreMoore уже получил финансовую поддержку Европейской Комиссии в размере 24,2 млн. Евро, рассчитанных на ближайшие 27 месяцев. Как мы упоминали (см. ниже), в NanoCMOS совсем не затрагиваются литографические аспекты новых технологий для производства полупроводниковых чипов по 45-ни и 32-нм нормам, и именно для этого и был начат отдельный проект. Впрочем, состав участников MoreMoore – частных компаний, академических институтов и научно-исследовательских организаций, до конца не определен.
Скорее всего, большая часть MoreMoore будет посвящена разработке EUVL (extreme-ultra-violet lithography, литография с применением жесткого ультрафиолетового излучения). Любопытно, что благодаря неясным перспективам коммерческого внедрения EUVL ее разработка может стать плодом совместного труда многих, в том числе и конкурирующих, компаний. Во всяком случае, в ASML на это очень надеются, и сроки MoreMoore соответствуют срокам NanoCMOS, то у европейских компаний появится шанс внедрить 45-нм EUV-установки к 2007 году, несмотря на недавний пересмотр своих планов их заокеанского конкурента и партнера в одном лице, Intel. Напомним, что из-за слишком большого числа нерешенных проблем с EUVL ее внедрение отложено на 2009 год.
Ссылки по теме:
Источник: PC Watch