По сообщению промышленных источников, сегодня Canon намерена представить новую линейку экспозиционных инструментов.
Среди новинок – платформа FPA-6000, поддерживающая 248 нм, 193 нм и 157 нм инструменты производства самой Canon. В настоящее время на базе FPA-6000 уже поставляются 248 нм и 193 нм системы.
Новый 193 нм инструмент AS4 оборудован оптикой с числовой апертурой 0.85, что позволяет выпускать чипы с нормами 0,09 мкм и менее. Еще один новый инструмент – 248 нм ES5, оборудован оптикой с NA 0.80, что позволяет обеспечивать производство микросхем с нормами техпроцесса порядка 110 нм. Производительность одноступенчатой платформ с такими инструментами достигает 500 мм/с, то есть, до ста сорока 300 мм кремниевых пластин в час и до ста семидесяти 200 мм кремниевых пластин в час.
Поставки платформ на базе 157 нм инструментов, по заявлениям Canon, начнутся в начале 2005 года. Одним из заказчиков новых инструментов станет немецкая Infineon Technologies AG.
Источник: PC Watch