Nikon сообщает, что сможет поставить первый коммерческий EPL (electron-beam projection lithography, электронно-лучевая литография)-продукт уже к июню текущего года.
Первый EPL-инструмент будет продан японской Selete (Semiconductor Leading Edge Technologies). Этот инструмент Nikon разрабатывает уже довольно давно, а оптическую часть, кстати, делает IBM. Утверждается, что скорость обработки составляет семь 300-мм полупроводниковых пластин в час. Инструмент предназначен для 65-нм техпроцессов, но в будущем возможно его применение и для 45-нм норм.
Источник: PC Watch