Согласно предварительным данным, оглашенным на шестом форуме International Forum on Semiconductor Technology (IFST), японский консорциум Extreme Ultraviolet Lithography System Development Association (EUVA) в текущем году планирует приступить к разработке первой EUV-установки. Появление рабочего прототипа системы ожидается в 2005 году.
Помимо EUVA, в Японии существует еще одна организация - Association of Super-Advanced Electronics Technologies (ASET), также занимающаяся разработкой EUV-установок, однако, по всей видимости, EUVA, созданная в 2001 году, станет своеобразным локомотивом этой разработки.
Интересно отметить, что в EUVA входят два известных производителя литографического оборудования - Canon и Nikon, являющиеся серьезными конкурентами. Обе компании будут заниматься совместной разработкой оптических систем для опытной EUV-установки. Тем не менее, обе компании намерены выводить на рынок свои собственные конечные EUV-продукты.
Источник: PC Watch