Интересное сообщение с походящей на этой неделе конференции SPIE Microlithography: голландская компания ASML Holding NV готовится отгрузить первую 157 нм литографическую установку уже в марте.
Первым 157-нм аппаратом станет разработанный еще компанией Silicon Valley Group Inc. (SVG, до ее приобретения ASML) аппарат Microscan VII. Первым покупателем Microscan VII станет расположенный в Бельгии меж-университетский центр Interuniversities MicroElectronics Center (IMEC), который с помощью новой установки намерен продолжить исследования по применению подобных устройств при выпуске чипов с нормами 65 нм.
Сканер Micrascan VII оборудован оптикой на основе фторида кальция (CaF2). Что-то подобное в свое время планировала использовать на своих предприятиях Intel, однако, как вы помните, из-за задержек на вооружение были приняты другие технологические решения.
Источник: PC Watch