Институт IMEC, недавно подписавший соглашение с ASML о дальнейшем сотрудничестве, рассчитывает на появление 450-миллиметровой фабрики в 2015 году.
По мнению руководителя института, в 2012 году будут готовы инструменты для метрологического тестирования и работы с пластинами диаметром 450 мм, а разработка техпроцесса будет завершена в период с 2013 по 2016 год. В 2016 году будет освоено производство.
Первая литографическая система, работающая с 450-миллиметровыми подложками и использующая источник жесткого ультрафиолетового излучения, появится в 2015 году, полагают в IMEC. К тому времени институту понадобится «чистая комната» для работы с 450-миллиметровыми пластинами.
Уверенность IMEC в том, что переход к 450-миллиметровые пластины состоится, основана на создании отраслевого альянса под названием Global 450 Consortium, в который вошли компании Intel, IBM, Samsung, TSMC и Globalfoundries.
Источник: EE Times