Компания ASML Holding NV, специализирующаяся на выпуске оборудования для полупроводникового производства, отгрузила первую в мире предсерийную установку для литографии в жестком ультрафиолетовом диапазоне (EUV), которую сам производитель относит ко второму поколению этой продукции. Хотя ASML молчит на этот счет, по некоторым данным, получателем системы NXE:3100 является компания Samsung Electronics. Южнокорейский производитель рассчитывает использовать технологию EUV-литографии для выпуска памяти типа DRAM по нормам менее 20 нм.
Еще пять систем NXE:3100 находятся в разной степени готовности. Они будет отгружены заказчикам до середины года. Предполагается, что это оборудование получат Intel, Toshiba, TSMC, Hynix и IMEC.
Разрешение NXE:3100 равно 27 нм, числовая апертура (NA) — 0,25, при этом достигается точность позиционирования не хуже 4,5 нм, а пропускная способность равна 60 пластин в час. Цена предсерийного образца EUV-сканера составляет почти 90 млн. долларов. По некоторым оценкам, за вариант, подходящий для серийного производства, компания запросит 125 млн. долларов.
Пока неясно, насколько EUV-литография готова к использованию в производстве, поскольку разработка источников энергии и других компонентов отстает от графика. Проблемой остается пропускная способность, еще не достигшая уровня, необходимого для серийного производства, отмечает источник.
Компания Nikon, выступающая конкурентом ASML, полагает, что EUV не будет готова к использованию при переходе на нормы 22 нм. Пока японский производитель создал две тестовые установки для EUV. Одна находится в самой компании, а вторую получила японская научно-исследовательская организация Selete.