Для разработки и освоения технологий полупроводникового производства необходимы столь значительные средства, что даже самые крупные производители стремятся объединить усилия и разделить затраты. Компании Intel, Toshiba и Samsung Electronics решили совместно разрабатывать технологии, которые позволят к 2016 году использовать в производстве нормы 10 нм. Об этом сообщает источник со ссылкой на японское издание Nikkei Daily.
Напомним, Intel носит титул крупнейшего мирового производителя интегральных микросхем, а компании Samsung Electronics и Toshiba занимают первое и второе место соответственно в рейтинге производителей флэш-памяти типа NAND. План трех компаний предусматривает скорое создание консорциума, в который будут приглашены еще около десятка компаний, работающих в полупроводниковом производстве и смежных областях, например, выпускающих полупроводниковые материалы.
Компании Toshiba и Samsung рассчитывают воспользоваться плодами сотрудничества для выпуска по нормам 10-нанометрового класса флэш-памяти типа NAND и других чипов. Что касается Intel, этой компании новые технологии позволят выпускать более производительные микропроцессоры, утверждает Nikkei.
Интересно, что одним из вероятных инвесторов проекта названо Министерство экономики, торговли и промышлености Японии. Предполагается, что оно внесет примерно половину средств, необходимых на начальном этапе исследований. Оставшуюся часть распределят между собой члены консорциума.
Источник: Reuters